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化學(xué)真空系統 PC 611 select常用于含高沸點(diǎn)溶劑的真空應用。該泵能夠同時(shí)搭配兩個(gè)獨立的真空應用使用。一個(gè)應用由配備直通電磁閥的VACUU·SELECT真空控制器進(jìn)行控制,另一個(gè)應用由手動(dòng)流量調節閥進(jìn)行抽速控制。兩個(gè)真空端口都內置單向止回閥,能夠防止交叉污染互相影響。
化學(xué)真空系統 PC 610 select描述 對于需要進(jìn)行電子控制蒸發(fā)或干燥(包含許多高沸點(diǎn)溶劑)過(guò)程的應用,我們的PC 600系列化學(xué)真空系統是一個(gè)很好的選擇。備受歡迎的MD 4C NT三級化學(xué)隔膜泵,其極限真空度為2mbar,是這些真空系統的核心組件。典型的應用包括實(shí)驗室常見(jiàn)應用,如旋轉蒸發(fā)、真空干燥和真空蒸餾。
普蘭德化學(xué)真空系統 PC 201 NT廣泛應用于化學(xué)、生物和制藥實(shí)驗室的排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過(guò)程。主要用于和旋轉蒸發(fā)儀、真空濃縮儀或真空干燥箱等連用,非常適用于高沸點(diǎn)溶劑。手動(dòng)流量控制閥可以調節真空接口的有效抽速,指針式的真空壓力計可顯示真空值。
化學(xué)真空系統 MD 12C NT +EK有非常廣泛地用途,如排氣、蒸發(fā)及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速,又非常適應高真空需求,如用于高沸點(diǎn)溶劑。MD 12C NT基礎泵配有一個(gè)氣鎮閥,在開(kāi)啟時(shí)仍有很好的極限真空,緊湊的設計下仍有好的性能。一貫的佳的耐化學(xué)腐蝕性,使其在化學(xué)及制藥領(lǐng)域幾乎通用。
化學(xué)真空系統 MD 12C NT +AK+EK非常廣泛地用途,如排氣、蒸發(fā)及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速,又非常適應高真空需求,如用于高沸點(diǎn)溶劑。MD 12C NT 基礎泵配有一個(gè)氣鎮閥,在開(kāi)啟時(shí)仍有很好的極限真空,緊湊的設計下仍有性能。
化學(xué)真空系統 MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一個(gè)真空泵即可同時(shí)實(shí)現兩種過(guò)程控制??膳c旋轉蒸發(fā)儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個(gè)真空連接口配備一個(gè)手動(dòng)控制閥來(lái)調節進(jìn)氣口的有效流量。
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